Jensen Huang, director general de Nvidia, afirma que China desarrollará sus propias máquinas de litografía avanzadas para 2030.
Jensen Huang, CEO de Nvidia, declaró en The All-In Podcast que China tendrá sus propias máquinas de litografía avanzadas para 2030. Este desarrollo permitiría a China fabricar semiconductores de vanguardia sin depender de ASML.
China ha iniciado proyectos ambiciosos apoyados por el estado para desarrollar equipos de fotolitografía UVE, necesarios para producir chips de 5 nm o menos. Empresas como Huawei y SMEE están a la vanguardia de estos avances.
El progreso de China en litografía podría alterar la dominancia de empresas como ASML. Si logra producir chips avanzados a gran escala, tendría un impacto significativo en la industria global de semiconductores.
China no solo busca autonomía, sino liderazgo en semiconductores.
// NVIDIA China tendrá máquinas de litografía avanzadas en 2030: Jensen Huang, director general de Nvidia, afirmó en The All-In Podcast que China desarrollará sus propios equipos de fotolitografía avanzada para el final de la década.
// NVIDIA China will have advanced lithography machines by 2030: Jensen Huang, CEO of Nvidia, stated in The All-In Podcast that China will develop its own advanced lithography equipment by the end of the decade.
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